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TMAX-RFPowerPagamento:
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5 Days:
CE, IOS, ROHS, SGS, UL CertificateFonte de alimentação RF para PECVD
O O sistema PECVD consiste em um forno tubular, uma câmara de vácuo de quartzo, um sistema, um sistema de fornecimento de gás e um sistema de fornecimento de energia de radiofrequência. Principalmente usado para: crescimento de filmes finos metálicos, filmes finos cerâmicos, filmes finos compostos, grafeno, etc. É fácil adicionar funções e pode expandir funções como limpeza e gravação de plasma. O sistema PECVD tem as vantagens de alta película taxa de deposição, boa uniformidade, alta consistência e estabilidade.
Principais parâmetros técnicos da fonte de alimentação RF:
|
Faixa de saída de potência |
0-500 W |
|
Máximo refletido poder |
200 W |
|
frequência de trabalho |
RF:13,56MHZ±0,005% |
|
Estabilidade de potência |
+/-0,1% |
|
Componente harmônico |
â¤-50dbc |
|
Largura da região Rf |
0-600mmajustável |
|
Maneira de correspondência |
automático |
|
Modo de resfriamento |
Pontos de frio |
|
Ruído |
<50dB |
|
Rádio interface de frequência |
50Ω tipo N |
|
Potência de entrada |
208-240 V 50/60 Hz |
1 Pacote exportado padrão: Proteção anticolisão interna, embalagem externa em caixa de madeira para exportação.
2 Envio expresso, aéreo e marítimo de acordo com a necessidade do cliente para encontrar a forma mais adequada.
3 Responsável pelos danos durante o processo de envio, trocará a peça danificada para você gratuitamente.
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