Máquina de revestimento por pulverização catódica

Baixo vácuo

Sputtering de magnetron

900 milhões (alvo único)

Plasma sputtering

900 e 800 (alvo único); SD-2000III(Três alvos)

Evaporação térmica

800C e 980(corda de carbono, sem cabeça de alvo)

Sputtering Magnetron + evaporação térmica

900C (alvo único), o outro caso é corda de carbono

Alto vácuo

Pulverização magnética de magnetron

SD-650MH(DC+ DC, DC + RF, RF+ RF)

Evaporação térmica

SD-100AF (haste de carbono de evaporação de calor, barco de molibdênio, barra de fio de tungstênio)