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Linha de equipamentos de pesquisa de células solares de perovskita

Máquina de limpeza com luz UV perovskita tipo gaveta pequena para limpeza de substrato pequeno, como ITO e FTO

Máquina de limpeza com luz UV perovskita tipo gaveta pequena para limpeza de substrato pequeno, como ITO e FTO

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  • Item nº.:

    TMAX-BZS
  • :

    CE Certified
Detalhes do produto

Máquina de limpeza com luz UV de perovskita tipo gaveta pequena para limpeza de substratos pequenos, como ITO e FTO


Ultrasonic Cleaning Machine

A máquina de limpeza com luz UV BZS250GF-TC possui eficiência e efeito de limpeza de nível industrial, adequada para limpeza de pequenos substratos, como painel de cristal líquido, ITO, FTO, vidro óptico, OLED, LCD, silício, cerâmica, folha de metal, polímero, silicone e outras limpezas de superfícies, para limpar a matéria orgânica superficial do produto, ou seja, modificação de superfície. Assim é obtida uma melhor hidrofilicidade.


A. Configuração do produto

Número de série

Descrição

Número do modelo

BZS200GF-TC

BZS250GF-TC

BZS320GF-TC

1

Material da máquina completa

Toda a máquina é feita de aço inoxidável espelhado 304 e os principais componentes são feitos de Schneider, Omron e outras marcas

2

Fonte de alimentação

220V,250W

220V,300W

220V,350W

3

Potência da lâmpada

200W

250W

320W

4

Tamanho de limpeza

150*150mm

200*200mm

250*250mm

5

Tecnologia de material de lâmpada

Material de quartzo puro japonês, lâmpada de grade de formato único

6

Espectro operacional

185+254nm

7

Vida útil da lâmpada

8.000 horas

8

Período

0-99 minutos/hora

9

Altura de irradiação

0-100mm

10

Assistência de luz

Refletor de alto desempenho

11

Aquecimento (opcional)

Faixa de aquecimento da temperatura ambiente a 300°C

12

Proteção de segurança

A lâmpada apaga automaticamente quando a gaveta é puxada

13

Luz de sinalização

Indicação/alerta de exceção

14

Função de exaustão

Com sistema de exaustão de ozônio, saída de 125 mm de diâmetro, equipado com tubos de ar e fixadores

15

Dimensão geral

350W*400L*350H (mm)

450L*390W*350H (mm)

16

Peso

20kg

22kg



B. Campo de aplicação

â Limpe o substrato antes da deposição do filme. Remoção de espuma e estabilização do tratamento fotorresistente. Vedação a vácuo ultra-alto.

â Limpe chips de silício, lentes, espelhos, painéis solares, aço laminado a frio, peças de orientação inercial e chips GaAs

â Fluxo limpo, circuito de mistura e display LCD de tela plana

â Etch Teflon, borrachas fluoradas e outros materiais orgânicos

â Superfície aprimorada de passivação de GaAs e óxido de Si

â Melhorar o efeito de desgaseificação do vidro

â Remoção da película azul do substrato

â Melhorar a adesão do revestimento na superfície plástica

â Mancha de tinta clara após teste final do substrato

â Remover fotorresistente

â Tela plana/tela LCD

â Remover resíduos da máquina litográfica

â Limpe a placa de circuito antes de embalar e colar)

â Fibra óptica

â Propriedades hidrofílicas de superfície aprimoradas

â Limpeza e desinfecção para aplicações em biociências

â Lente óptica

â Outros aplicativos

C. Efeito de limpeza

O efeito de limpeza é geralmente testado pela hidrofilicidade da superfície do substrato, ou seja, o ângulo de contato








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