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Linha de equipamentos de pesquisa de células solares de perovskita

Revestimento por pulverização catódica de íon de magnetron de alto vácuo DC ou RF usado para fazer células solares de perovskita

Revestimento por pulverização catódica de íon de magnetron de alto vácuo DC ou RF usado para fazer células solares de perovskita

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  • Item nº.:

    TMAX-650MH
  • :

    CE Certified
Detalhes do produto

Revestimento de revestimento por pulverização catódica de íon magnetron de alto vácuo DC ou RF usado para fazer células solares de perovskita


Introdução

Alto Vácuo Magnetron Ion Sputtering Coater é ideal e projetado para ciência de materiais e preparação de amostras. É amplamente utilizado pela maioria das universidades e institutos de pesquisa científica de ciência e engenharia de materiais para revestir metais, cerâmicas, semicondutores, isoladores ou outros tipos de preparação de materiais de membrana.

O revestidor de pulverização catódica de íons magnetron de alto vácuo fornece o ambiente de pulverização catódica mais estável e atinge as condições experimentais básicas de pulverização catódica de magnetron em um período muito curto de tempo. Ele fornece DC / RF dois tipos de opções de energia de pulverização catódica que permitem a pulverização catódica de substâncias condutoras ou não condutoras na amostra e melhoram o desempenho da deposição física de vapor (PVD). Também é excelente para tratamento e revestimento de superfície. É fácil de operar e fácil de usar.

Bomba de vácuo e resfriador estão incluídos.

Parâmetro

Aspirador pbomba configuração

(Oil necessário) rrotatório vacuum pump+(oil free) turbo moleculano pconjunto de bomba

Rotativo paceleração velocidade

50 Hz: 16 m³/h (4,4 L/s)/ 60 Hz: 19,2m³/h (5,2 L/s)

Velocidade molecularde bombeamento velocidade

300 L/s

Vácuo limitar

5x10-5Pa

Trabalhar psegurança

0,5-5Pa

Aspirando time

10 minutos(10-3Pa)

Vácuo mmedida

Faixa de medição da atmosfera até 1*10Pa

Controle de gás

Gás fbaixo ccontrolador

Tamanho datamanho da câmara

Ï260*200mm (altura) metal

Magnetron talvo fonte

Tamanho do alvo Ï 50*3mm(Cu)/tfonte do alvo: weak magnético ssubstância /mmateriais

Operação mmétodo

Manual de instruçõesl

Peso/tamanhotamanho

100kg/610mm de comprimento x 420mm de largura x 490mm de altura

Fonte deenergia

CA 110V 60Hz ou CA 220V 50Hz

Energia cconsumo

<3000W

Resfriamento mmétodo

Ar ararrefecimento(pump)+ águaágua carrefecer(sputtering talvo)

Garantia

Garantia limitada de um ano com suporte vitalício ao produtot









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